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        “我们已经发展到了这个规模了，就算是想要低调也是做不到的。”

        “所以倒不如充分的认识现实，接受现实就是了。”

        曹阳很是直接的给出了自己的判断，这个回复让方思思有点失望。

        不过，事实就是事实，失望也是没有用的。

        而仿佛是为了进一步的对美利坚和东瀛的封锁做一个回应，曹阳让南山化学在官网上公布了自己最新的一个成果。

        [ArF光刻胶研发成功，即将进入到大规模量产】

        这个消息一出来，立马在半导体行业的圈子里头引起了非常大的震动。

        ArF光刻胶一直是半导体制程领域性能最可靠、使用最广泛的光刻光源。

        在2000年以后，在浸没光刻、多重光刻等新技术的辅助下，ArF光刻系统突破了此前65nm分辨率的瓶颈，在45nm到10nm之间的半导体制程工艺中，ArF光刻技术仍然得到了最广泛的应用。

        所以ArF光刻胶得技术门槛虽然没有EUV光刻胶来的高，但也是属于光刻胶里头的高端产品。

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