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        而光刻机，特别是EUV光刻机的价格非常的高。

        这就导致了光刻胶的研发的设备门槛变得很高。

        “华夏那边应该也有企业能够生产光刻胶吧？”

        虽然克里斯托弗很期待皮特的这个提议能起到很好的效果，但他也是担心期望越高，失望越大。

        “华夏确实是有一些企业很早就开始研究光刻胶了，但是光刻胶的种类有很多，他们只是掌握了一些比较低端的型号。”

        “大部分的高端型号都是需要继续依赖进口。”

        “虽然我不确定南山半导体那边有多少种光刻胶需要进口，但是我相信一定是没有实现100%国产化的。”

        皮特非常肯定的给出了自己的判断意见。

        “光刻胶的性能指标很多，研发难度很大，像是分辨率、黏附性、对比度、敏感度、抗蚀性、表面张力、曝光速度、针孔密度、阶梯覆盖度等，都是研发的时候需要考虑的因素。”

        “光刻胶的选择和光刻胶工艺的研发是一项漫长而复杂的过程，东瀛的东京应化和JSR、住友化学，再加上美利坚的杜邦，基本上就占据了超过70%的光刻胶市场了。”

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